薄膜低溫等離子處理太陽能背板

是電暈處理還是低溫等離子處理?

         塑料材料由于具有原料豐富、易于加工制造、重量輕、價格低、有適當的機械性能和較好的防水防潮性能,容易與其他材料復合等優點,全世界塑料的年增長率高達10%~11%,其中一半以上用作包裝材料。但是,塑料薄膜的表面張力較低不能完全滿足印刷工藝的要求。同時,塑料薄膜印刷主要使用的凹版印刷油墨,主要用甲苯,二甲苯為溶劑,隨著世界對環境保護的要求越來越高,溶劑性油墨逐漸被淘汰,取而代之的是水性油墨,水性油墨對塑料薄膜表面張力的要求更高。目前用低溫等離子體技術對塑料等材料進行改性,以提高塑料薄膜表面的表面張力,改善塑料薄膜對油墨的粘合性是一項新興的技術。在低溫等離子體中,中性原子的溫度接近于常溫但電子溫度可達2 ~10eV。與此同時,隨著等離子體中原子的電離、復合、激發和躍遷,會產生紫外線,其光子能量也為2~4eV范圍。顯然等離子體中粒子和光子提供的能量是相當高的。這么高的能量(溫度)是其他化學方法所不能提供的。等離子體的這種溫度分布特性,決定了它具有一系列其他物質所沒有的特殊功能。
        另一方面,構成有機物(包括紙張、塑料等)的高分子化合物的許多鍵能也為幾個電子伏特,其結合能大小與等離子體中電子、離子、光子的能量相接近。因此當等離子體中電子或離子達到介質表面時,可以輕易把這些鏈打開,使它們成為自由基,如CH,OH,CN,CS及COOH等,從而加速了材料表面的活化。這種活化后的表面容易與其他材料結合,也可以進行等離子體接枝或聚合,則會有選擇地生成有特殊性能的新材料,當然所有這些物理化學變化也只是在表面幾百埃的范圍內。
        電暈處理由于是屬于流注放電,其放電處理的形態是絲狀放電,即對材料表面處理的放電是不均勻的點狀放電。在低張力要求的情況下采用電暈處理已經可以符合溶劑性油墨的要求。如果采用水性油墨則對材料的表面張力的要求就相對比較高,如果還采用電暈處理必須提高單位面積內的處理功率,這就很容易將材料擊穿或處理溫度過高使材料變鄒。因此,在要求高表面張力的情況下,采用輝光放電低溫等離子體來處理薄膜則可以在不影響材料性能的前提下大幅提高材料的表面張力。如采用輝光放電低溫等離子體來處理PET、BOPP、PE、PVC等高分子材料,可以使材料的表面張力達到70達因以上。

PG系列低溫等離子
大氣輝光放電薄膜處理機產品介紹

     PG系列數碼低溫等離子大氣輝光放電薄膜處理系統是蘇曼公司在2009年研制出的新型系列薄膜處理設備。設備中采用了具有蘇曼公司自主知識產權的殘留電子大氣輝光放電技術,使等離子放電的形態由絲狀放電過度到輝光均勻放電。使材料的表面處理獲得高表面張力而材料的性能不會有任何影響。

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                              PG-10000F
                     低溫等離子薄膜處理機

處理寬度:1000~2500mm
設備體積:
主  機:220(W)×310(H)×590(D)mm3
變壓器:350(W)×350(H)×350(D)mm3
設備重量:
主  機:12kg;
變壓器:38kg
電源:AC380V(±20%),其它電壓定制(AC220~460V)
主機和變壓器之間的連線:<5m
主要用途:寬幅吹膜、復合、涂布、金屬鍍膜和高速流延等工藝的低溫等離子體處理。

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                               PG-8000F
                     低溫等離子薄膜處理機

處理寬度:800~1600mm
設備體積:
主  機:220(W)×310(H)×590(D)mm3
變壓器:350(W)×350(H)×350(D)mm3
設備重量:
主  機:12kg;
變壓器:38kg
電源:AC380V(±20%),其它電壓定制(AC220~460V)
主機和變壓器之間的連線:<5m
主要用途:寬幅吹膜、復合、涂布、金屬鍍膜和高速流延等工藝的低溫等離子體處理。

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                                 PG-6000F
                      低溫等離子薄膜處理機

處理寬度:300~1200mm
設備體積:
主  機:180(W)×280(H)×450(D)mm3
變壓器:250(W)×200(H)×200(D)mmmm3
設備重量:
主  機:12kg;
變壓器:12kg
電源:AC380V(±20%),其它電壓定制(AC220~460V)
主機和變壓器之間的連線:<5m
主要用途:吹膜、復合、涂布、金屬鍍膜等工藝的低溫等離子體處理。

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                         PG-100~2500D
                          輝光放電處理站

PG-D系列低溫等離子大氣輝光放電薄膜、薄片或片材處理站,采用了蘇曼公司的專有技術,即殘留電子大氣輝光放電技術,使等離子放電達到了準輝光均勻放電效果。使用特點是處理均勻,處理的材料表面張力高(可以達到72達因以上),不會損壞材料的表面,不降低材料的阻隔性,特別適合處理各種織物、要求高表面張力的材料和難處理的材料(如PP、PTFE/Teflon)。單面處理寬度可以在100~2500mm定制。產品結構為全不銹鋼,雙氣缸開合,使用簡單

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                             PG-100~2500S
                             輝光放電處理站

PG-S系列低溫等離子大氣輝光放電薄膜、薄片或片材處理站,采用了蘇曼公司的專有技術,即殘留電子大氣輝光放電技術,使等離子放電達到了準輝光均勻放電效果。使用特點是處理均勻,處理的材料表面張力高(可以達到72達因以上),不會損壞材料的表面,不降低材料的阻隔性,特別適合處理各種織物、要求高表面張力的材料和難處理的材料(如PP、PTFE/Teflon)。雙面處理寬度可以在100~2500mm定制。產品結構為全不銹鋼,雙氣缸開合,使用簡單

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                               PG-6000G
                   低溫等離子光學薄膜處理機


處理寬度:600mm(單面)(或定制)
設備體積:1100(W)×1800(H)×650(D)mm3
設備重量:380kg;
電源:AC380V(±20%),其它電壓定制(AC220~460V)
設備特點:低溫等離子處理、高張力(70達因以上)、帶收解卷。



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